A low-temperature fabricated gate-stack structure for Ge-based MOSFET with ferromagnetic epitaxial …

“A low-temperature fabricated gate-stack structure for Ge-based MOSFET with ferromagnetic epitaxial Heusler-alloy/Ge electrodes”

Yuichi Fujita, Michihiro Yamada, Yuta Nagatomi, Keisuke Yamamoto, Shinya Yamada, Kentarou Sawano, Takeshi Kanashima, Hiroshi Nakashima, and Kohei Hamaya

Japanese Journal of Applied Physics 55, 063001-1~4 (2016). 　DOI:10.7567/JJAP.55.063001(外部サイト)

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