Compressively strained Si/Si1-xCx heterostructures formed on Ar ion implanted Si(100) substrates

“Compressively strained Si/Si1-xCx heterostructures formed on Ar ion implanted Si(100) substrates”

Yusuke Hoshi, You Arisawa, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kiyokazu Nakagawa, Kentarou Sawano, and Noritaka Usami

Japanese Journal of Applied Physics 55, 031302 (2016). DOI: https://doi.org/10.7567/JJAP.55.031302(外部サイト)

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