Thermal stability of compressively strained Si/relaxed Si1-xCx heterostructures formed on Ar ion im…

“Thermal stability of compressively strained Si/relaxed Si1-xCx heterostructures formed on Ar ion implanted Si (100) substrates”

You Arisawa, Yusuke Hoshi, Kentarou Sawano, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto, Chiaya Yamamoto, Noritaka Usami

Materials Science in Semiconductor Processing 70, 127-132 (2017) DOI: https://doi.org/10.1016/j.mssp.2016.11.024(外部サイト)

東京都市大学 ナノエレクトロニクス研究室

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