Formation of compressively strained SiGe/Si(110) heterostructures and their characterization

“Formation of compressively strained SiGe/Si(110) heterostructures and their characterization”,

K. Arimoto, T. Obata, H. Furukawa, J. Yamanaka, K. Nakagawa, K. Sawano and Y. Shiraki,

J. Cryst. Growth, 362, pp. 282-287 (2013). doi:10.1016/j.jcrysgro.2011.12.082(外部サイト)

東京都市大学 ナノエレクトロニクス研究室

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